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André
administrateur
Inscrit le: 07 Jan 2007
Messages: 11030
Localisation: Montreal 45.500°N, 73.580°W
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 Posté le: Sam 12 Avr 2008 10:06 pm Sujet du message: Electronique: un matériau congelant pour la technologie 22 n |
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SAlut a tous
Electronique: un matériau congelant pour la technologie 22 nm
JSR Corporation, en partenariat avec le centre de recherche belge IMEC et le Centre de la Microélectronique Interuniversitaire, a créé un matériau lithographique innovant ouvrant la voie à l'élaboration de CMOS en finesse de gravure de 22 nm (nanomètres).
La méthode la plus prometteuse pour obtenir cette finesse de gravure est le "double-patterning" qui emploie un double motif sur deux matériaux différents.
Le matériau fabriqué par JSR, grâce à des propriétés réfrigérantes, améliore cette méthode de fabrication en empêchant le premier matériau photorésistant de se mélanger avec le solvant du second. 
Wafer de puces Intel, en silicium
Ce sont sur ce type de wafer que sont gravés les microprocesseurs actuels
Les 22 nm sont l'étape qui suit la finesse de gravure en 32 nm et représentent la dernière évolution avant la transition vers la nano-électronique qu'apportera la technologie 16 nm.
Parmi les différentes méthodes permettant d'atteindre cette finesse de gravure (22 nm représentera la longueur du demi-pas typique d'une cellule mémoire),
la technologie lithographique de gravure la plus prometteuse est celle du double-motif ("double patterning" en anglais) qui peut être de deux types:
double exposition avec double gravure ou bien double exposition avec simple gravure.
Les deux expositions servent à obtenir une finesse de gravure très précise mais nécessitent un matériau photorésistant capable de maintenir de manière stable un motif pendant l'exposition qui ne lui est pas destinée.
C'est là que le nouveau matériau congelant intervient en durcissant la surface d'un des deux matériaux photorésistants impliqués pour améliorer la qualité des motifs obtenus.
JSR Corporation dit avoir développé le nouveau matériau pour le processus à double exposition avec simple gravure pour obtenir un pas plus fin.
Rappelons que, d'après les prévisions, la technologie 22 nm apparaîtra dans l'industrie entre 2011 et 2012.
JSR Corporation est convaincu que son nouveau matériau s'imposera comme un incontournable des procédés lithographiques qui seront utilisés à ce moment-là.
Source:
http://www.techno-science.net/?onglet=news&news=5267
BE Japon numéro 478 (7/04/2008) - Ambassade de France au Japon / ADIT - http://www.bulletins-electroniques.com/actualites/53864.htm
Illustration: Intel
amicalement
_________________
Etrange époque où il est plus facile de désintégrer l' atome que de vaincre un préjugé.
Einstein, Albert, |
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néo
Chroniqueur
Inscrit le: 14 Mar 2007
Messages: 1796
Localisation: valleyfield
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| Posté le: Dim 13 Avr 2008 1:28 am Sujet du message: |
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Bonsoir
A qoui ça va servir au juste?
aurevoir
_________________
vivre et laisser vivre |
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